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提拉式长晶炉回收+高港真空流量计回收物流/提货派送

发布:2024/4/29 21:49:34 来源:shxj365
提拉式长晶炉高港真空流量计物流/提货派送受电的动力装置(电动机)及其保护电器支路应垂直与电源电路。5,主电路用垂直线绘制在图的左侧,控制电路用垂直线绘制在图的右侧,控制电路中的耗能元件画在电路的下端。6,图中自左而右或自上而下表示作顺序,并尽可能减少线条和避免线条交叉。7,图中有直接电的交叉导线的连接点(即导线交叉处)要用黑圆点表示。无直接电的交叉导线,交叉处不能画黑圆点。8。4在原理图的上方将图分成若干图区。动力电路的电源电路绘成水平线并标明该区电路的用途与作用,在继电器,接触器线圈下方列有触点表,以说明线圈和触点的从属关系。碗形的气流导向装置设于坩埚支持器下方和部的排气口之间,且气流导向装置的中轴孔及一对电极孔分别与该炉的石 墨中轴及一对电极孔配合设置,有效地减小了炉内空间,便于迅速及时地 将炉内的一氧化硅与氩气的混合气体排出,且利于减少热能和氩气的消耗量,使原有的引晶率从65KW减到61KW,另外,由于该炉的排气口与气流 导向装置的各通气孔相连通。

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具有自主知识产权。生产的单晶硅生长炉(TDR85/95/105-JN)TDR—JN系列全自动晶体生长炉具有自主知识产权,是采用直拉法生长P型或N型单晶硅材料的专用设备。装料量从95Kg~150Kg,可拉制6"~12"电路级和太阳能级单晶硅棒。然后从 该炉上端充入氩气。工作时,炉内的石英坩埚上方不断有一氧化硅和粉尘 杂质生成,因此在不断充入氩气的同时,所述真空泵同时将一氧化硅,粉 尘杂质与氩气等的混合气体排出,其中,气体的流动过程为从石英坩埚上 方经坩埚支持器14与发热体16之间的间隙,以及发热体16与保温筒17 之间的间隙流入气流导向装置20。由设于排气口 13上的真空泵将炉内空气排尽在该炉工作前然后经图6中的气流导向装置20的一对 通气孔2-3既有效地防止了一氧化硅气体对 加热器7和坩埚支持器14等石墨器件的腐蚀,还可有效防止杂质粉尘吸附 在这些石墨器件上,从而确保了该炉的使用寿命。气流导向装置20的一对 通气孔2-3与该炉的一对排气口 13相对设置,缩短了排气管路的长度,利 于提高排气效率。

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不仅硅单晶生长顺利,而且品质较高,如果热场的温度分布不是很合理,生长硅单晶的过程中容易产生各种缺陷,影响质量,情况严重的出现变晶现象生长不出来单晶。因此在投资硅单晶生长企业的前期,一定要根据生长设备,配置出合理的热场,从而保生产出来的硅单晶的品质。在直拉硅单晶生长工艺中,一般采用温度梯度来描述热场的温度分布情况。设计与编辑在直拉法生长硅单晶的过程中其中在固液界面处的温度梯度为关键。硅单晶生长的成与否以及质量的高低是由热场的温度分布决定的。温度分布合适的热场数值模拟是在一个低成本的情况下所以数值是一种达到较高生产率和较好满足市场对晶体直径。分子泵,真空泵,真空流量计,plc编程,控制屏,离子泵,涡轮分子泵,螺杆真空泵,涡旋高真空泵,关电源有两种主要的工作方式:正激式变换和升压式变换。尽管它们各部分的布置差别很小,但是工作过程相差很大,在特定的应用场合下各有优点。1,关:电力电子器件工作在关状态而不是线性状态2,高频:电力电子器件工作在高频而不是接近工频的低频3,直流:关电源输出的是直流而不是交流。

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